반도체 제모

반도체 제모는 비 침습적 인 현대적인 제모 기술입니다. 가장 이상적인 제모 방법 중 하나입니다. 그것의 파장은 810 나노 미터이며, 이는 스펙트럼의 근적외선 영역에있다. 깊고 피하 지방 지방 조직은 다른 부분과 깊이의 모낭에 작용하여 인체의 어떤 부분과도 머리카락을 효과적으로 제거하고 진정으로 한 번에 효과를 달성합니다.다른 제모 방법과 비교하여 반도체 제모의 특성은 주로 다음 측면에서 반영됩니다.

1. 색소 침착, 침투 깊이반도체 레이저깊고 표피는 레이저의 에너지를 거의 흡수하지 않으므로 색소 침착이 없을 것입니다.

2. 전기 침투 제모와 비교하여 더 빠르고 편안하며 부작용이 적고 안전성이 높습니다.

3. 영구 제모. 반도체 레이저 제모는 여러 치료 후 영구적 인 제모를 달성 할 수 있습니다.

4. 고통스러운.

최초의 레이저 제모는 매우 고통 스러웠으므로 사람들은 이것에 대해 걱정했지만 반도체 레이저 제모는이 문제를 완벽하게 해결했습니다. 제모의 전체 과정은 고통스럽고 진정으로 한 번에 달성되었습니다. 반도체 제모의 치료 후 치료 :

1. 처리 후 발적 및 붓기가 발생할 수 있으며, 적절한 얼음이 발적 및 붓기를 제거 할 수 있습니다.

2. 치료 후에는 태양 보호에주의를 기울이고 직사광선에 나타나지 않으며 아침과 저녁에 나가야합니다.

3. 반도체 제모의 효과는 그다지 효과적이지 않을 수 있습니다. 치료 후 의사와 적극적으로 의사 소통하고 조정하고 의사의 조언에 따라 시간에 따라 치료를 후속 조치해야합니다.

4. 치료 후 따뜻한 물을 사용하여 치료 영역을 청소할 수 있습니다.

5. 치료 후에는식이 요법에주의를 기울이고 매운 음식을 먹지 말고 마시거나 담배를 피우지 않아야합니다.